Dosier-Ventil mit Ultra-Reinheits-Steuerung für Elektronik-Bauteil-Reinigungssysteme mit Anti-Kontamination

Unser Dosier-Ventil wurde speziell für die Reinigungssysteme von Elektronikkomponenten entwickelt, die Halbleiter und Leiterplatten handhaben. Es gewährleistet eine ultrareine Steuerung der Reinigungsflüssigkeit und verhindert gleichzeitig Verunreinigungen. Das Ventil verfügt über einen ultrareinen Innenraum mit Ra 0,05 µm Politur und PFA-Auskleidung, um Partikelabsonderung zu verhindern (≤1 Partikel/ml, ≥0,5 µm), die empfindliche Halbleiter beschädigen könnten.

Das Ventil ist mit DI-Wasser (18,2 MΩ*cm) und IPA kompatibel und verwendet Perfluoroelastomer-Dichtungen, die den SEMI F021-Standards für die elektronische Reinigung entsprechen. Mit einer präzisen Durchflussregelung von 0,1-10 ml/min und einer Fehlertoleranz von ±0,1 % passt es sich perfekt den Anforderungen der Mikrokomponentenreinigung an. Das Anti-Verschmutzungs-Design beinhaltet einen geschlossenen Kreislauf, um den Kontakt der Reinigungsflüssigkeit mit der Luft zu verhindern und so ein optimales Reinheitsniveau zu erhalten.

• Ultrareiner Hohlraum (Ra 0,05 µm) mit PFA-Auskleidung gewährleistet eine Verschmutzungskontrolle von ≤1 Partikel/ml
• DI-Wasser-/IPA-kompatible Perfluoroelastomer-Dichtungen erfüllen die SEMI F021-Standards
• Präzise Durchflussregelung (0,1-10 ml/min, ±0,1 % Fehler) passt sich an mikroelektronische Komponenten an
• Das Design mit geschlossenem Kreislauf erhält die Reinheit der Reinigungsflüssigkeit durch Vermeidung von Luftkontakt
• Kompatibel mit Ultraschallreinigungsmaschinen für automatisierte Prozesse